Servicio todo en uno para la máquina de la vacuometalización de PVD.
De la fábrica de la vacuometalización de PVD que construye a los artículos consumibles y al ofrecimiento de los recambios.
 |
| Lugar de origen: | China |
| Nombre de la marca: | JXS |
| Certificación: | CE |
| Cantidad de orden mínima: | 1 set |
|---|---|
| Precio: | As per configuration |
| Detalles de empaquetado: | caso de madera, película plástica |
| Tiempo de entrega: | 70 días laborables |
| Condiciones de pago: | L / C, T / T |
| Capacidad de la fuente: | 100 CONJUNTOS/AÑO |
| Material de cámara: | Acero inoxidable 304 | Sistema de Control: | Full Auto, semi auto, manual |
|---|---|---|---|
| Garantía: | 1 año | después-ventas: | Ingeniero disponible mantener en ultramar |
| Estructura: | Frente vertical abierto | color de la capa: | Oro, oro de Rose, azul, gris, negro |
| tensión: | 380V, 50Hz o por encargo | Tamaño de la cámara: | por encargo |
| Grupo de la bomba: | Bomba mecánica de Pump+Roots Pump+Diffusion/Turbo | Tecnología de la capa: | Arco multi o arco multi + magnetrón que farfulla o farfulla del magnetrón |
| Resaltar: | Unidad termal de la capa de la evaporación,Máquina de capa de DLC |
||
Principio de funcionamiento: Farfulle la deposición es un método físico de (PVD) de la deposición de vapor de deposición de la película fina farfullando. Esto implica el expulsar del material de una “blanco” que sea una fuente sobre un “substrato” por ejemplo una oblea de silicio. Resputtering es re-emisión del material depositado durante el proceso de la deposición por el bombardeo del ion o del átomo. Los átomos farfullados expulsados de la blanco tienen una distribución amplia de la energía, típicamente hasta diez del eV (100.000 K). Los iones farfullados (típicamente solamente una pequeña parte de las partículas expulsadas se ionizan — por orden del 1 por ciento) pueden balístico volar de la blanco en líneas rectas e impacto enérgico en los substratos o la cámara de vacío (que causa resputtering). Alternativamente, en presiones de gas más altas, los iones chocan con los átomos del gas que actúan como asesor y se mueven difusamente, alcanzando los substratos o la pared de la cámara de vacío y condensando después de experimentar un paseo al azar. La gama entera del impacto balístico de alta energía al movimiento termalizado de poca energía es accesible cambiando la presión de gas del fondo. El gas de la farfulla es a menudo un gas inerte tal como argón. Para la transferencia de ímpetu eficiente, el peso atómico del gas de la farfulla debe estar cercano al peso atómico de la blanco, así que para farfullar el neón ligero de los elementos es preferible, mientras que para los elementos pesados se utiliza el criptón o el xenón. Los gases reactivos se pueden también utilizar para farfullar compuestos. El compuesto se puede formar en la superficie de la blanco, durante el vuelo o en el substrato dependiendo de los parámetros de proceso. La disponibilidad de muchos parámetros que controlen farfulla la deposición le hace un proceso complejo, pero también no prohibe a expertos al grado grande de control sobre el crecimiento y la microestructura de la película.
Característica: fácil controlar espesor del film y color, multa y partícula lisa de la película
Uso: productos 3C, reloj, joyería, etc.
Proceso verde: ningún gas dañino, ningunas aguas residuales, ningún material de desecho.
Persona de Contacto: cassiel
Teléfono: +8613929150962
